2011년 7월 1일 이후 출원되는 특허/실용신안등록 출원에 대하여는 명세서에 배경기술의 기재가 의무화되었습니다.  이에 따라 특허청구범위에 기재된 발명에 대하여 관련된 배경기술의 설명 또는 그 배경기술이 개시된 선행기술문헌 정보를 출원시에 명세서상에 기재하여야 합니다. 

배경기술을 기재하지 않았을 경우 또는 기재된 배경기술이 특허청구범위에 기재된 발명과 관련성이 적은 경우에는 거절이유가 통지될 수 있습니다. 배경기술 기재위배의 거절이유에 대하여는 배경기술이 개시된 선행기술문헌의 정보만을 명세서에 추가하는 보정으로 극복할 수 있습니다. 그러나 배경기술의 구체적 설명을 명세서에 추가하는 보정은 신규사항으로 취급될 수 있으므로 주의하여야 합니다. 

금번에 도입된 한국특허법의 배경기술 기재의무는 출원시에 명세서상에 배경기술이 기재되어 있으면 족하고, 출원후에 알게 된 배경기술을 추가로 기재하여야 할 의무는 없으므로, 미국의 IDS제도와는 다릅니다. 또한 출원시에는 배경기술에 관한 설명을 명세서에 기재하면 족하고, 반드시 선행기술문헌의 정보를 개시하여야 하는 것은 아니라는 점에서 일본의 선행기술개시의무와 다릅니다.